당사는 반도체 제조 공정에 사용되는 고순도 Chemical, DIW, Slurry 및 특수 약액에 대한 정밀 계측 및 제어 솔루션을 제공합니다.
유량계 및 LFC는 높은 정밀도와 다양한 유체 조건에 대응하며 안정적인 성능과 신뢰성을 확보합니다.
적용 산업
| 산업군 | 적용분야 | 주요 기능 및 효과 | 적용 모델 |
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반도체
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세정장비 | Chemical 유량 정밀 제어를 통해 웨이퍼 세정 균일성과 공정 안정성을 확보 | MERIT100, MERIT120, MERIT200, MERIT300 |
| CMP장비 | Slurry 공급 유량 정밀 제어로 CMP 공정 안정성과 품질 향상을 지원 | MERIT400 | |
| Chemical 유량 정밀 제어를 통해 웨이퍼 세정 균일성과 공정 안정성을 확보 | MERIT100, MERIT200, MERIT300 | ||
| 포토장비 | 고반응성 Chemical의 정밀 유량 제어를 통해 Strip & Etching 공정의 균일성과 안정성을 향상 | MERIT100, MERIT200, MERIT300 |